芯片七纳米制程，是指晶体管之间的间距是七纳米，还是晶体管的尺寸是七纳米？-随便找财经网

芯片七纳米制程，是指晶体管之间的间距是七纳米，还是晶体管的尺寸是七纳米？

　　我来简单说说吧！

　　1、纳米是尺寸还是间距：用最直白的话说，芯片制造工艺中的5nm、7nm其实指的就是晶体管尺寸。一般专业术语称之为晶体管栅极的宽度（下图红框就是栅极），也就是所谓的栅长。栅长的宽度越小，也就意味着晶体管的尺寸越小。

　　2、晶体管小的好处：晶体管越小也就意味着在单个晶圆体上能塞入更多的晶体管，相同晶圆体面积的情况下，这样就可以以更小的功耗来容纳更复杂的电路系统，也就意味着了电路系统集成度更高，能实现更大的运行速率。目前晶圆体尺寸最小能达到4寸，不过集成电路主流是使用8寸的晶圆体（见图）。

　　3、晶体管尺寸不能无限缩小：当然，在我们这个世界很多技术都会遇上物理极限，晶体管尺寸也一样。按照现有的技术，当晶体管达到20nm时就会产生量子物理问题，比如漏电等。

　　因此，随着尺寸的越来越小，要解决的技术问题也就越多，厂商的研发难度也就越高。现在的7nm的制造工艺已经接近物理极限，而台积电现在已经准备研制5nm制造工艺，真要成功基本算是要突破物理极限了。

　　4、光刻机和蚀刻机的作用：要想实现纳米级晶体管制造，最终都离不开这两种设备。前者的主要作用是在晶圆体上涂抹光刻胶并进行光腐蚀，并在其中包含编码等内容；而后者则是将光刻机复印在晶圆体上的电路进行蚀刻，最终形成栅级，也就是前面说的晶体管。

　　Lscssh科技官观点：不知道看了以上的内容题主有无明白！目前我国在芯片制造领域整体还算过得去，除了最尖端的光刻机领域技术比较薄弱，只能生产90nm的设备，但在晶圆体和蚀刻机（见上图）方面我国技术并不弱，基本和世界先进水平持平。

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