现在n+1制程为什么不需要光刻机？-随便找财经网

现在n+1制程为什么不需要光刻机？

　　N+1制程目前仅有中芯在提，这里我就给题主以及网友详细讲讲中芯这方面的情况吧！

　　1、N+1需要7nm光刻机

　　首先得明确一点，任何芯片的生产都需要光刻机，没有光刻机代工厂是无法有效生产的，因此中芯N+1制程也是需要光刻机的。

　　目前中芯并未明确N+1制程是多少nm工艺，按照其提供的参数来看，业内预估是7nm工艺。如果按此计算的话，中芯N+1需要7nm的光刻机。

　　而事实上中芯也已经向荷兰ASML采购了一台7nm EUV光刻机，但现阶段这台机器一直未到位。背后的原因很简单，，荷兰自然也得跟随大佬的脚步，现在这机器至今未获得荷兰的出口许可。

　　2、没有7nm光刻机怎么办？

　　中芯现阶段既拿不到7nm光刻机，又想要使用N+1制程，那该怎么解决呢？

　　办法当然是有的，因为7nm制程并非百分百需要EUV光刻机，在基于现有的技术路线上完全可以采取其他技术手段来解决7nm制程的生产，当年台积电最初的7nm制程就是在未使用ASML 7nm EUV光刻机的情况下生产。

　　现在可行的方式就是使用DUV多重曝光来解决，通常生产7nm工艺芯片至少得曝光4次，相比EUV光刻机只要一次即可，这种生产方式显然效率较低，成本也更高，包括芯片的良品率也会大幅降低。

　　但是，在没拿到7nm EUV光刻机前中芯只能依赖这种技术手段来处理，哪怕效率低成本高，但有技术可以生产总比没有强。

　　因此，在中芯当前的规划中N+1并非是必须使用7nm EUV光刻机。

　　3、按规划N+2制程将应用EUV光刻机

　　目前按照中芯自己的规划来看，未来到N+2时将转移到EUV光刻机，只要条件许可就必须要上。

　　很显然，当中芯的制程上到N+2时，再想继续通过多重曝光只怕这良率更低，成本更高，此时就不得不必须使用EUV光刻机了，否则不仅N+2制程受影响，后续更先进的制程发展更受阻碍。要知道台积电现在已经在使用EUV光刻机生产5nm的芯片了。

　　最后这里再给大家顺带说一下中芯目前的整体进展，现阶段中芯14nm工艺已经量产，前阶段也和化为签了合约为其代工，14nm的产能2020年底将达到15000万片。而N+1工艺现阶段已经完成客户导入验证，年底可以实现小规模量产，到2021年将会全面量产。

　　Lscssh科技官观点：

　　综合而言，中芯这2年的发展还是比较神速的，但是和三星、台积电相比差距还是相当大的，人家已经开始在量产5nm了，我们至今还只是14nm，希望未来今年中芯的发展能比较顺利，最终缩小和头部企业的代差，乃至追平。

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