发布时间:2020-08-16 13:08:06 文章来源:互联网
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明年这时候中国能不能研发出国产的7nm光刻机

    明年,100%造不出来,赌多少都行。

    光刻机原理说起来特别简单,就是投影仪加单反的原理,利用激光源,把电路图通过光罩投到硅片上去。
 
    但偏偏这么简单的东西,在全球,也只有荷兰一家叫做阿斯麦(ASML)的公司集全球高端制造业之大成,能够制造出7nm的光刻机,也就是EUV光刻机,一年大约能生产出二十台高端设备。
 
    而为此台积电与三星每年为此抢破了头,中芯国际足足等了三年,也没能将中国的首台EUV光刻机迎娶进门。
 
    那么这么简单的东西,难点在哪里?首先是光源,目前EUV光源生产商主要是的,请问会卖给你么?
 
    其二是技术,像尼康、佳能都起步比ASML早,但后来在浸润式技术上落后之后,就再也没追上ASML,尼康、佳能这么强,为何后来追不上了,自然是因为技术不行,国内目前还在90nm,一年就到达7nm,说出来你也不相信啊。
 
    更何况光刻机还有很重要的一个因素,那就是经验积累,光刻机涉及到几万个零件,而精度更是以nm来讲,任何一个零件的调试都是最重要的,ASML的工程师,可以为一个零件而调试10年,这就是差距。
 
    而国内呢?光源买不到,技术差距10年以上,同时经验积累差太远,最后说一年就可以从90nm跨到7nm,我相信写故事会都不敢这么写呢?
 
    不是我要给大家泼冷水,我只是实事求是,不吹牛,虽然打鸡血很重要,但如果打过头了,就会上头,就会成笑话了,扎实点,一步一个脚印吧,吹牛无用。

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